晶圓代工企業中芯國際（SMIC）正在努力獲得關鍵的極紫外（EUV）光刻設備，以開發7nm以下製程技術。業內觀察人士表示，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中芯國際正尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥（ASML）就EUV光刻設備進行談判。
據報道，中芯國際計劃使用EUV光刻機，生產基於7nm以下製程技術的芯片產品。最近，有媒體報道，該公司已經從20nm工藝過渡到3nm工藝，唯一缺的就是EUV光刻機。有了EUV光刻機，該公司就可以量產3nm芯片。
阿斯麥的總部位於荷蘭的費爾德霍芬，生產基地和研發設施則位於康涅狄格州、加州、台灣和荷蘭，科技發展中心及訓練設施位於日本、韓國、荷蘭、台灣和美國。
該公司服務的客戶為全球主要的半導體製造商，打造在電力電子、通信和信息技術產品中廣泛應用的芯片。
目前，只有阿斯麥能造極紫外光刻機。據悉，三星電子、英特爾和台積電等都采購了該公司的極紫外光刻設備。今年4月份，調查公司Omdia表示，阿斯麥去年交付了26台極紫外光刻機，其中約一半面向大客戶台積電。
然而，報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥那獲得極紫外光刻設備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍有顧慮。
中芯國際及其控股子公司是集成電路晶圓代工企業之一，提供0.35微米到14納米不同技術節點的晶圓代工與技術服務。
昨日晚間，美國商務部發布公告稱，商務部工業和安全局（BIS）將中芯國際列入實體名單，以限制其獲取美國關鍵技術的能力。
美國商務部稱，中芯國際被列入實體名單後，美國出口商必須申請許可證才能向該公司銷售產品。（小狐狸）
來源：cnBeta
